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不銹鋼真空鍍工藝
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不銹鋼真空鍍工藝
來源:
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作者:
佚名
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發布時間:
2017-08-01
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不銹鋼真空鍍設備種類:立式爐和臥式爐
不銹鋼真空鍍原理:在真空條件下,應用氣體放電實現鍍膜,即在真空室中使氣體或被蒸發物質電離,在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下,將蒸發物或其反應產物蒸鍍在基材上。
不銹鋼真空鍍概念:
不銹鋼真空鍍是在高溫,真空鈦金爐內,鈦、鋯、鉻金屬靶材。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化,離子經電場加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上,從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。(可鍍鈦金、玫瑰金、香檳金、酒紅金、咖啡金、古銅色、寶石藍、黑鈦金、紫羅蘭、翡翠綠)
真空鍍工藝流程:
1.將爐內雜質氣體抽凈,真空度達到10-2Pa——10-4Pa;
2.充入惰性氣體(氮氣、氬氣等);
3.將充入的氣體經高壓直流電產生離子,對基材表面進行離子轟擊,起到對板材表面濺射清洗作用,使膜層附著強度大大加強,后面鍍膜上色容易,杜絕了掉鈦現象,板面干凈明亮;
4.接通蒸發源交流電源,蒸發料粒子熔化蒸發,進入輝光放電區并被電離。帶正電荷的蒸發料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當拋鍍于工件表面上的蒸發料離子超過濺失離子的數量時,則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的顏色鍍層;
5.放氣出爐,完成成品操作。
真空鍍表面特征:
(1)外觀:純金屬膜,凝重而華麗的金屬光澤
(2)抗腐蝕和氧化性:不褪色,不易劃傷
(3)通用性:室內外主要的表面裝飾工藝
(4)良好的可塑性:在彎曲90度以上,不易斷裂或脫皮及表面檫傷
(5)耐抗性:硬度系數超過80RC
真空鍍基材加工要求:
板材厚度:0.40-3.0mm
板材寬度:300mm-1500mm
基材表面:拉絲 蝕刻 亂紋 鏡面 鐳射
應用范圍領域:真空PVD鍍膜不同與傳統的電鍍等方式,因為其獨特的性能,高硬度,防磨檫,不剝落,不褪色,高度防腐,并且不受紫外線影響,因此,PVD鍍膜不銹鋼是作為一種獨特的裝飾材料被廣泛應用于各種裝飾領域。
高要求真空鍍質量標準:
紋理清晰,均一穩定,亮度統一,不褪色(保證同批量生產產品的均勻度90%以上)。
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